法，日后慢慢整合。中关村这个实验室，则研究最基础最核心的东西——光刻机。
老陈挠挠头道：“其实研究光刻机的，周边有两家机构呀。”
是啊，可他们最后都会放弃。
李建昆有这个计划后，自然打听过。目前国内研究光刻机整机的仅有的两家单位，全在方圆五公里内。
这是一个很好优势。
不过现在似乎不太重视了，很多年没听说过有成果。
国内当下最先进的光刻机技术，全在里头。
1971年，他们研制出了
1980年，他们又研发出了自动对准分步投影光刻机。即
众所周知，光刻机发展到2020年代时，共有五代。
一代和二代，从性质上讲，均为接触接近式光刻机。